產(chǎn)品特征:

·安裝方便 ·使用簡單 ·處理速度快 ·真空度 ·可接入輔助氣體 ·過程控制 ·低成本處理方式

該設(shè)備的真空腔體與智能集成等離子電極組合實現(xiàn)了在0.1-- 3Mbar狀態(tài)下等離子體的精準放電，同時處理時間也很短，一般狀態(tài)下針對不同的材料有不同的組合方案處理時間一般控制在20-120秒左右。

VacuTEC2020真空等離子處理設(shè)備具有操作簡單、生產(chǎn)加工速度快等優(yōu)點。處理過程中可以加入像氬和氧氣等輔助氣體來提升表面處理效果，但在大多數(shù)情況下，因為高功率的等離子體放電一般不需要氣體來輔助參與。

VacuTEC2020采用先進的Tantec主機HV-X系列作為電源，特別設(shè)計的高頻高壓變壓器為等離子體電極提供了強大的功率輸出。

Tantec不僅有標準的真空技術(shù)設(shè)備，也有定制設(shè)計的設(shè)備。真空技術(shù)定制機器是專門以客戶標準開發(fā)的來100%適應(yīng)客戶的生產(chǎn)線。

特點：
·安裝簡便 僅需連接電源和壓縮空氣。
·處理速度快 高效的輸出功率可以實現(xiàn)不同的材料在20-120秒之內(nèi)即可完成快速處理。
·維護簡單 本設(shè)備安裝方便，操作簡單，便于維護。
·腔體門設(shè)計 采用鉸鏈連接加視窗設(shè)計方案。
·適用范圍 可以適用于導(dǎo)體和非導(dǎo)體的任何材料表面。
·低成本處理工藝 幾乎不需要任何輔助氣
·處理過程監(jiān)控 整個處理過程HV-X主機與PLC實時監(jiān)控，所有的參數(shù)都顯示在觸摸屏上。
·真空度 針對于不同的材料等離子設(shè)備釋放區(qū)域在0.1-3Mba之間可以隨意設(shè)定。
·輔助氣體 處理過程中可以加入像氬氣、氧氣、氮氣的輔助氣體，但一般情況下不需要。